විලයනය වූ ක්වාර්ට්ස්

Si සහ FeSi නිෂ්පාදනයේදී, ප්‍රධාන Si ප්‍රභවය වන්නේ ක්වාර්ට්ස් ආකාරයෙන් SiO2 වේ.SiO2 සමඟ ප්‍රතික්‍රියා SiO වායුව ජනනය කරන අතර එය SiC සමඟ Si සමඟ තවදුරටත් ප්‍රතික්‍රියා කරයි.රත් කිරීමේදී, ක්වාර්ට්ස් ස්ථායී අධි-උෂ්ණත්ව අවධිය ලෙස ක්‍රිස්ටෝබලයිට් සමඟ අනෙකුත් SiO2 වෙනස් කිරීම් වලට පරිවර්තනය වේ.Cristobalite බවට පරිවර්තනය මන්දගාමී ක්රියාවලියකි.කාර්මික ක්වාර්ට්ස් ප්‍රභවයන් කිහිපයක් සඳහා එහි අනුපාතය විමර්ශනය කර ඇති අතර විවිධ ක්වාර්ට්ස් වර්ග අතර සැලකිය යුතු ලෙස වෙනස් වන බව පෙන්වා දී ඇත.මෙම ක්වාර්ට්ස් මූලාශ්‍ර අතර උනුසුම් කිරීමේදී හැසිරීම් වල අනෙකුත් වෙනස්කම්, එනම් උෂ්ණත්වය මෘදු කිරීම සහ පරිමාව ප්‍රසාරණය කිරීම ද අධ්‍යයනය කර ඇත.quartz-cristobalite අනුපාතය SiO2 සම්බන්ධ ප්‍රතික්‍රියා අනුපාතයට බලපානු ඇත.ක්වාර්ට්ස් වර්ග අතර නිරීක්ෂණය කරන ලද වෙනසෙහි කාර්මික ප්රතිවිපාක සහ අනෙකුත් ඇඟවුම් සාකච්ඡා කෙරේ.වත්මන් කාර්යයේ දී, නව පර්යේෂණාත්මක ක්රමයක් වර්ධනය කර ඇති අතර, නව ක්වාර්ට්ස් මූලාශ්ර කිහිපයක විමර්ශනයක් විවිධ මූලාශ්ර අතර කලින් නිරීක්ෂණය කරන ලද විශාල විචලනය තහවුරු කර ඇත.දත්තවල පුනරාවර්තන හැකියාව අධ්‍යයනය කර ඇති අතර වායු වායුගෝලයේ බලපෑම විමර්ශනය කර ඇත.සාකච්ඡාව සඳහා පදනමක් ලෙස පෙර කාර්යයේ ප්රතිඵල ඇතුළත් වේ.

ෆියුස්ඩ් ක්වාර්ට්ස් දියවී යාමෙන් තනි ස්ඵටික වර්ධනය සඳහා crucible ද්රව්යයක් ලෙස විශිෂ්ට තාප සහ රසායනික ගුණ ඇති අතර, එහි ඉහළ සංශුද්ධතාවය සහ අඩු පිරිවැය ඉහළ සංශුද්ධතාවයේ ස්ඵටික වර්ධනය සඳහා එය විශේෂයෙන් ආකර්ෂණීය කරයි.කෙසේ වෙතත්, ඇතැම් වර්ගවල ස්ඵටික වර්ධනයේ දී, උණු කිරීම සහ ක්වාර්ට්ස් කුරුසය අතර පයිෙරොලිටික් කාබන් ආලේපන ස්ථරයක් අවශ්ය වේ.මෙම ලිපියෙන් අපි රික්ත වාෂ්ප පරිවහනය මගින් පයිෙරොලිටික් කාබන් ආලේපනය යෙදීම සඳහා ක්රමයක් විස්තර කරමු.මෙම ක්‍රමය පුළුල් පරාසයක ක්‍රූබල් ප්‍රමාණයන් සහ හැඩයන් මත සාපේක්ෂ වශයෙන් ඒකාකාරී ආලේපනයක් ලබා දීම සඳහා ඵලදායී බව පෙන්වා දී ඇත.එහි ප්‍රතිඵලයක් ලෙස පයිෙරොලිටික් කාබන් ආලේපනය දෘශ්‍ය දුර්වලතා මිනුම් මගින් සංලක්ෂිත වේ.සෑම ආෙල්පන ක්‍රියාවලියකදීම, පයිෙරොලිසිස් කාලසීමාව වැඩි වන විට, ආෙල්පනයේ ඝණකම ඝාතීය වලිගයක් සහිත පර්යන්ත අගයකට ළඟා වන බව පෙන්වනු ලබන අතර, සාමාන්‍ය ඝනකම දළ වශයෙන් පවතින හෙක්සේන් වාෂ්ප පරිමාවේ පයිරොලයිටික් මතුපිට ප්‍රදේශයට අනුපාතය සමඟ රේඛීයව වැඩි වේ. ආලේපනය.මෙම ක්‍රියාවලිය මගින් ආලේප කරන ලද Quartz crucibles 2-in-in-diameter Nal තනි ස්ඵටික දක්වා සාර්ථකව වර්ධනය වීමට භාවිතා කර ඇති අතර, Nal ස්ඵටිකයේ මතුපිට ගුණාත්මක භාවය වැඩි වන විට ආලේපනයේ ඝනකම වැඩි වන බව සොයා ගන්නා ලදී.